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    循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)方法介紹(圖)

    作者:北京中天恒遠(yuǎn) 發(fā)布于:2018-03-31 17:20:04瀏覽量:

      今天為廣大朋友介紹的是——污水處理氣浮裝置

      循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)及旁流水處理方法,該旁流水處理系統(tǒng)包括旁流取水單元;與旁流取水單元連接的電化學(xué)水處理裝置,電化學(xué)水處理裝置中包括反應(yīng)室;反應(yīng)室的底端設(shè)有入口和排污口,且上端設(shè)有出口;設(shè)置在反應(yīng)室內(nèi)部頂端的陽(yáng)極;位于反應(yīng)室和陽(yáng)極之間的刮刀;及驅(qū)動(dòng)刮刀的驅(qū)動(dòng)裝置;驅(qū)動(dòng)裝置位于所述反應(yīng)室的下方;與電化學(xué)水處理裝置連接的旋液分離器,其溢流口與循環(huán)水系統(tǒng)相連;與反應(yīng)室的排污口和旋液分離器的底流口連接的排污單元。該旁流水處理系統(tǒng)通過(guò)控制水量、礦物質(zhì)、懸浮物和生態(tài)四個(gè)平衡,將水質(zhì)控制在適當(dāng)?shù)姆秶鷥?nèi),從而解決循環(huán)冷卻水系統(tǒng)中結(jié)垢、腐蝕、懸浮物和微生物的問(wèn)題。

      

     

      1.一種循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng),用于處理循環(huán)水系統(tǒng)中部分循環(huán)水,其特征在于,包括:

      旁流取水單元;

      與所述旁流取水單元連接的電化學(xué)水處理裝置,所述電化學(xué)水處理裝置中包括反應(yīng)室;

      所述反應(yīng)室的底端設(shè)有入口和排污口,且上端設(shè)有出口;

      設(shè)置在所述反應(yīng)室內(nèi)部頂端的陽(yáng)極;

      位于所述反應(yīng)室和陽(yáng)極之間的刮刀;

      及驅(qū)動(dòng)所述刮刀的驅(qū)動(dòng)裝置;所述驅(qū)動(dòng)裝置位于所述反應(yīng)室的下方;

      與所述電化學(xué)水處理裝置連接的旋液分離器,所述旋液分離器設(shè)有進(jìn)料口、溢流口和底流口,所述溢流口與所述循環(huán)水系統(tǒng)相連,所述進(jìn)料口與所述反應(yīng)室的出口相連;

      與所述反應(yīng)室的排污口和旋液分離器的底流口連接的排污單元。

      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng),其特征在于,所述循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)還包括控制單元,所述控制單元用于分別控制旁流取水單元、電化學(xué)水處理裝置、旋液分離器和排污單元。

      3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng),其特征在于,所述循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)還包括人工檢測(cè)校驗(yàn)單元;

      所述人工檢測(cè)校驗(yàn)單元用于調(diào)整控制單元。

      4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng),其特征在于,所述循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)還包括與控制單元連接的遠(yuǎn)程監(jiān)控單元。

      5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng),其特征在于,所述排污單元包括儲(chǔ)污倉(cāng);所述儲(chǔ)污倉(cāng)設(shè)置有排污入口和排污出口;

      所述反應(yīng)室的排污口和所述儲(chǔ)污倉(cāng)的排污入口相連。

      6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng),其特征在于,所述旋液分離器的底流口與儲(chǔ)污倉(cāng)的排污入口相連。

      7.一種根據(jù)權(quán)利要求1~6任一項(xiàng)所述循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)處理循環(huán)冷卻水旁流水的方法,包括以下步驟:

      將旁流取水單元中的待處理水通入到電化學(xué)水處理裝置中,得到電解處理后的水、消毒物質(zhì)和水垢;

      將所述電解處理后的水和消毒物質(zhì)通入到旋液分離器中,得到懸液分離處理后的水、消毒物質(zhì)和懸浮物,所述懸液分離處理后的水和消毒物質(zhì)輸送到所述循環(huán)水系統(tǒng)中;

      將所述水垢和懸浮物通入到排污單元中進(jìn)行處理。

      8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法,其特征在于,所述電化學(xué)水處理裝置中的循環(huán)冷卻水的停留時(shí)間TAR按照下述反應(yīng)式進(jìn)行計(jì)算:

      TAR=V÷L=(K-1)×V÷Qe;

      其中,V為循環(huán)水系統(tǒng)保有體積,m3;

      L為損失(Qb+Qd);Qb為排污量;Qd為飛濺或風(fēng)吹損失量;

      實(shí)際或運(yùn)行濃縮倍數(shù):K=Qm÷(Qb+Qd);Qm為循環(huán)水系統(tǒng)補(bǔ)加水量;

      蒸發(fā)量Qe=Q×F×(ΔT×1.8÷1000),Q為循環(huán)冷卻水循環(huán)量;F為顯冷校正系數(shù),年平均0.75,冬季為0.65,夏季為0.85;ΔT為冷卻塔溫度差。

      9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法,其特征在于,所述排污單元按照下述反應(yīng)式得到的排污時(shí)間進(jìn)行排污:

      t=3600×(Qm÷(f×K×Q1)-Qd÷(f×Q1))

      其中,Qm為循環(huán)水系統(tǒng)補(bǔ)加水量;

      Qd為冷卻塔飛濺損失;

      Q1為旁流處理量;

      t為排污時(shí)間;

      f為排污頻率;

      K為實(shí)際或運(yùn)行濃縮倍數(shù),循環(huán)水與補(bǔ)水中硫酸根的比值,無(wú)量綱。

      循環(huán)冷卻水系統(tǒng)是以水作為冷卻介質(zhì),由換熱設(shè)備、冷卻設(shè)備、水泵、管道及其它有關(guān)設(shè)備組成,并循環(huán)使用的一種給水系統(tǒng)。旁流水,是從循環(huán)冷卻水系統(tǒng)中分流并經(jīng)處理后,再返回循環(huán)冷卻水系統(tǒng)的那部分水。

      循環(huán)冷卻水是指通過(guò)換熱器交換熱量或直接接觸換熱方式來(lái)交換介質(zhì)熱量并經(jīng)冷卻塔冷卻后,循環(huán)使用,以節(jié)約水資源。一般情況下,循環(huán)冷卻水是中性或弱堿性的,pH值控制在7~9.5之間。水經(jīng)過(guò)冷卻塔降溫之后(通常蒸發(fā)掉1~2%可以將剩下的98~99%的水的溫度降低5~10℃),重新回到換熱器吸收熱量,如此循環(huán)不止;水循環(huán)過(guò)程中蒸發(fā)掉的是純水,水中的鹽份則會(huì)不斷濃縮,溶解鹽類的濃度不斷升高;難溶鹽或微溶鹽的濃度達(dá)到飽和濃度以上時(shí),就會(huì)結(jié)晶析出,成為水垢,碳酸鈣則是循環(huán)水系統(tǒng)中比較為常見的水垢。同時(shí)冷卻塔中的循環(huán)水溫度一般為30℃左右,微生物滋生也是循環(huán)冷卻水中常見的問(wèn)題。循環(huán)冷卻水在循環(huán)運(yùn)行過(guò)程中不可避免地對(duì)換熱設(shè)備產(chǎn)生一系列的危害,即水垢、污垢的沉積、腐蝕的加劇、菌藻的滋生等,如不進(jìn)行有效治理,循環(huán)冷卻水系統(tǒng)則很難正常運(yùn)行。

      目前,現(xiàn)有技術(shù)采用投加化學(xué)藥劑的方式處理循環(huán)冷卻水中的水垢、污垢的沉積、腐蝕的加劇、菌藻的滋生等問(wèn)題,但是傳統(tǒng)加藥方式無(wú)法在線消毒,殺菌滅藻劑投加是間歇投加的,微生物在兩次投加之間會(huì)滋生,造成微生物和懸浮物問(wèn)題;排污也是間歇式排污,碳酸鈣飽和指數(shù)LSI和穩(wěn)定指數(shù)RSI波動(dòng)范圍大,結(jié)垢和腐蝕也難以得到穩(wěn)定的控制。

      發(fā)明內(nèi)容

      有鑒于此,本發(fā)明的目的在于提供一種循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)及旁流水處理方法,本發(fā)明提供的旁流水處理系統(tǒng)能夠同時(shí)解決循環(huán)冷卻水的腐蝕、結(jié)垢、微生物和懸浮物問(wèn)題。

      本發(fā)明提供了一種循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng),用于處理循環(huán)水系統(tǒng)中部分循環(huán)水,包括:

      旁流取水單元;

      與所述旁流取水單元連接的電化學(xué)水處理裝置,所述電化學(xué)水處理裝置中包括反應(yīng)室;

      所述反應(yīng)室的底端設(shè)有入口和排污口,且上端設(shè)有出口;

      設(shè)置在所述反應(yīng)室內(nèi)部頂端的陽(yáng)極;

      位于所述反應(yīng)室和陽(yáng)極之間的刮刀;

      及驅(qū)動(dòng)所述刮刀的驅(qū)動(dòng)裝置;所述驅(qū)動(dòng)裝置位于所述反應(yīng)室的下方;

      與所述電化學(xué)水處理裝置連接的旋液分離器,所述旋液分離器設(shè)有進(jìn)料口、溢流口和底流口,所述溢流口與所述循環(huán)水系統(tǒng)相連,所述進(jìn)料口與所述反應(yīng)室的出口相連;

      與所述反應(yīng)室的排污口和旋液分離器的底流口連接的排污單元。

      優(yōu)選地,所述循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)還包括控制單元,所述控制單元用于分別控制旁流取水單元、電化學(xué)水處理裝置、旋液分離器和排污單元。

      優(yōu)選地,所述循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)還包括人工檢測(cè)校驗(yàn)單元;

      所述人工檢測(cè)校驗(yàn)單元用于調(diào)整控制單元。

      優(yōu)選地,所述循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)還包括與控制單元連接的遠(yuǎn)程監(jiān)控單元。

      優(yōu)選地,所述排污單元包括儲(chǔ)污倉(cāng);所述儲(chǔ)污倉(cāng)設(shè)置有排污入口和排污出口;

      所述反應(yīng)室的排污口和所述儲(chǔ)污倉(cāng)的排污入口相連。

      優(yōu)選地,所述旋液分離器的底流口與儲(chǔ)污倉(cāng)的排污入口相連。

      本發(fā)明提供了一種根據(jù)上述技術(shù)方案所述循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)處理循環(huán)冷卻水旁流水的方法,包括以下步驟:

      將旁流取水單元中的待處理水通入到電化學(xué)水處理裝置中,得到電解處理后的水、消毒物質(zhì)和水垢;

      將所述電解處理后的水和消毒物質(zhì)通入到旋液分離器中,得到懸液分離處理后的水、消毒物質(zhì)和懸浮物,所述懸液分離處理后的水和消毒物質(zhì)輸送到所述循環(huán)水系統(tǒng)中;

      將所述水垢和懸浮物通入到排污單元中進(jìn)行處理。

      優(yōu)選地,所述循環(huán)冷卻水在循環(huán)水系統(tǒng)中的停留時(shí)間TAR按照下述反應(yīng)式進(jìn)行計(jì)算:

      TAR=V÷L=(K-1)×V÷Qe;

      其中,V為循環(huán)水系統(tǒng)保有體積,m3;

      L為損失(Qb+Qd);Qb為排污量;Qd為飛濺或風(fēng)吹損失量;

      實(shí)際或運(yùn)行濃縮倍數(shù):K=Qm÷(Qb+Qd);Qm為循環(huán)水系統(tǒng)補(bǔ)加水量;

      蒸發(fā)量Qe=Q×F×(ΔT×1.8÷1000),Q為循環(huán)冷卻水循環(huán)量;F為顯冷校正系數(shù),年平均0.75,冬季為0.65,夏季為0.85;ΔT為冷卻塔溫度差。

      優(yōu)選地,所述排污單元按照下述反應(yīng)式得到的排污時(shí)間進(jìn)行排污:

      t=3600×(Qm÷(f×K×Q1)-Qd÷(f×Q1))

      其中,Qm為循環(huán)水系統(tǒng)補(bǔ)加水量;

      Qd為冷卻塔飛濺損失;

      Q1為旁流處理量;

      t為排污時(shí)間;

      f為排污頻率;

      K為實(shí)際或運(yùn)行濃縮倍數(shù),循環(huán)水與補(bǔ)水中硫酸根的比值,無(wú)量綱。

      本發(fā)明提供了一種循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng),用于處理循環(huán)水系統(tǒng)中部分循環(huán)水,包括:旁流取水單元;與所述旁流取水單元連接的電化學(xué)水處理裝置,所述電化學(xué)水處理裝置中包括反應(yīng)室;所述反應(yīng)室的底端設(shè)有入口和排污口,且上端設(shè)有出口;設(shè)置在所述反應(yīng)室內(nèi)部頂端的陽(yáng)極;位于所述反應(yīng)室和陽(yáng)極之間的刮刀;及驅(qū)動(dòng)所述刮刀的驅(qū)動(dòng)裝置;所述驅(qū)動(dòng)裝置位于所述反應(yīng)室的下方;與所述電化學(xué)水處理裝置連接的旋液分離器,所述旋液分離器設(shè)有進(jìn)料口、溢流口和底流口,所述溢流口與所述循環(huán)水系統(tǒng)相連,所述進(jìn)料口與所述反應(yīng)室的出口相連;與所述反應(yīng)室的排污口和旋液分離器的底流口連接的排污單元。本發(fā)明提供的系統(tǒng)中的電化學(xué)水處理裝置能夠控制水的結(jié)垢和微生物的滋生;旋液分離器能夠分離循環(huán)冷卻水中的懸浮物和捕捉從電化學(xué)水處理裝置中逃逸的水垢結(jié)晶;排污單元將電化學(xué)水處理裝置中的水垢和旋液分離器中的懸浮物以及部分循環(huán)冷卻水排出系統(tǒng)之外,實(shí)現(xiàn)循環(huán)冷卻水中的礦物質(zhì)平衡,維持碳酸鈣在穩(wěn)定狀態(tài),易腐蝕離子濃度處于安全范圍內(nèi),從而控制循環(huán)冷卻水的腐蝕問(wèn)題,因此,該循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)通過(guò)控制水量、礦物質(zhì)、懸浮物和生態(tài)四個(gè)平衡,將水質(zhì)控制在適當(dāng)?shù)姆秶鷥?nèi),從而解決循環(huán)冷卻水系統(tǒng)中結(jié)垢、腐蝕、懸浮物和微生物的問(wèn)題,保證循環(huán)水系統(tǒng)安全高效運(yùn)行。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明:本發(fā)明提供的旁流處理系統(tǒng)處理循環(huán)冷卻水后返回到循環(huán)水系統(tǒng)中,循環(huán)水系統(tǒng)中的循環(huán)冷卻水的濁度在20NTU以下;LSI維持在1.0~2.0之間;RSI維持在4.0~6.0之間。

      

     

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