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去離子水處理設(shè)備的操作不當(dāng)引起膜性能的損壞
，去離子水處理設(shè)備中有殘余氣體在高壓下運(yùn)行,形成氣錘會(huì)損壞膜
常有兩種情況發(fā)生:A、設(shè)備排空后,重新運(yùn)行時(shí),氣體沒有排盡就快速升壓運(yùn)行。應(yīng)在2～4bar的壓力下將余下的空氣排盡后,再逐步升壓運(yùn)行。B、在預(yù)處理設(shè)備與高壓泵之間的接頭密封不好或漏水時(shí)(尤其是微濾器及其后的管路漏水)當(dāng)預(yù)處理供水不很足時(shí),如微濾發(fā)生堵塞,在密封不好的地方由于真空會(huì)吸進(jìn)部分空氣。應(yīng)清洗或更換微濾器,保證管路不漏。總之,應(yīng)在流量計(jì)中沒有氣泡的情況下逐步升壓運(yùn)行,運(yùn)行中發(fā)現(xiàn)氣泡應(yīng)逐漸降壓檢查原因。
第二，關(guān)去離子水處理設(shè)備時(shí)的方法不正確
A、關(guān)機(jī)時(shí)快速降壓沒有進(jìn)行徹底沖洗。由于膜濃水側(cè)的無機(jī)鹽的濃度高于原水,易結(jié)垢而污染膜。B、用投加化學(xué)試劑的預(yù)處理水沖洗。因含化學(xué)試劑的水在設(shè)備停運(yùn)期間可能引起膜污染。
在準(zhǔn)備關(guān)機(jī)時(shí),應(yīng)停止投加化學(xué)試劑,逐步降壓至3bar左右用預(yù)處理好的水沖洗10min,直至濃縮水的TDS與原水的TDS很接近為止。
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